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学生党如何自W,14没有工具怎么自w到高c 国家知识产权局:将修改完善集成电路布图设计保护条例,适应大规模集成电路发展需要

  金融界(jiè)4月24日消息,国家知识产权局局(jú)长申长(zhǎng)雨在(zài)新闻(wén)发布学生党如何自W,14没有工具怎么自w到高c会上表示(shì),将统筹推进各类知识产权法律法规和制度规则的制(zhì)修(xiū)订(dìng)工作(zuò)。其中(zhōng),修改完善集成电(diàn)路布图(tú)设计保护(hù)条例,适应大规模集成(chéng)电路(lù)发(fā)展(zhǎn)需(xū)要,助力芯片产业做(zuò)大(dà)做强(qiáng),服务数字经济更好发展。

  加(jiā)强大(dà)数据、人工(gōng)智能、基因技术等新领域新业态知识产权(quán)规(guī)则研究,助力相关领域创新(xīn)发(fā)展。同时,积极参与知识产权国际规则制定,更好(hǎo)对(duì)接高标(biāo)准(zhǔn)国(guó)际经贸规(guī)则,助力高水平对外开放。

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